電子行業為什么要用到超純水設備？

去離子水/超純水在電子工業主要是線路板、電子元器件生產中的重要作用日益突出，去離子/超純水水質已成為影響線路板、電子元器件產品質量、生產成品率及生產成本的重要因素之一，水質要求也越來越高。在電子元器件生產中，去離子水/超純水主要用作清洗用水及用來配制各種溶液、漿料，不同的電子元器件生產中純水的用途及對水質的要求也不同。【牧馬河水處理】 　　

在晶體管、集成電路生產中，超純水主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制，硅片氧化的水汽源，部分設備的冷卻水，配制電鍍液等。集成電路生產過程中的80%的工序需要使用高純水清洗硅片，水質的好壞與集成電路的產品質量及生產成品率關系很大。水中的堿金屬（K、Na等）會使絕緣膜耐壓不良，重金屬（Au、Ag、Cu等）會使PN結耐壓降低，Ⅲ族元素（B、Al、Ga等）會使N型半導體特性惡化，Ⅴ族元素（P、As、Sb等）會使P型半導體特性惡化，水中細菌高溫碳化后的磷（約占灰分的20-50%）會使P型硅片上的局部區域變為N型硅而導致器件性能變壞，水中的顆粒（包括細菌）如吸附在硅片表面，就會引起電路短路或特性變差。集成電路生產對純水水質的要求見表1

表1   集成電路（DRAM）對純水水質的要求

電子超純水設備是保證電子產品質量安全促進電子業健康運行的依據，電子超純水設備適用集成電路生產中高純水清洗硅片、半導體材料、晶元材料生產、加工，純水一號的電子工業設備廣泛的用于在電子業中，而且在電子業中的地位更是蒸蒸日上成為業內發展的*。

電子行業超純水的特點

目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業等級，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，線寬越窄，對水質的要求也越高

電子行業超純水中除了水分子(H20)外，幾乎沒有什么雜質，更沒有細菌、病毒、含氯二惡英等有機物，當然也沒有人體所需的礦物質微量元素。超純水,是一般工藝很難達到的程度，如水的電阻率大于18MΩ*cm，接近于18.3MΩ*cm則稱為超純水。目前，超純水設備的方法通常采用反滲透，去離子或電去離子(EDI)等工藝。

電子行業超純水發展的歷史進程

階段：預處理過濾器——>陽床——>陰床——>混合床

第二階段：預處理過濾器——>反滲透——>混合床

現階段：    預處理過濾器——>反滲透——>EDI(無需酸堿)

電子行業超純水設備的幾中工藝

目前制備電子工業超純水的工藝基本上是以上三種，其余的工藝流程大都是在以上三種基本工藝流程的基礎上進行不同組合搭配衍生而來。現將他們的優缺點分別列于下面：

種：采用離子交換樹脂制備電子工業超純水的傳統水處理方式，其基本工藝流程為：原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→陽床→陰床→混床(復床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點

其優點在于初次投資少，占用的地方少，但缺點就是需要經常進行離子再生，耗費大量酸堿，而且對環境有一定的破壞。

第二種：采用反滲透水處理設備與離子交換設備進行組合制備電子工業超純水的方式，其基本工藝流程為：原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設備→混床(復床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點

其特點為初次投資比采用離子交換樹脂方式要稍高，但離子再生周期相對要長，耗費的酸堿比單純采用離子樹脂的方式要少很多。是目前比較經濟與流行的一種工藝。

第三種：采用反滲透設備與電去離子(EDI)設備進行搭配制備電子工業超純水的的方式，這是一種制取超純水的工藝，也是一種環保，經濟，發展潛力巨大的超純水制備工藝，其基本工藝流程為：原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設備→電去離子(EDI)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點

這是目前制取超純水，的的工藝，不需要用酸堿進行再生便可連續制取超純水，對環境沒什么破壞性。其缺點在于初次投資相對以上兩種方式過于昂貴。

電子行業超純水設備技術特征及水質標準

技術特征

1、可連續自動生產，不必停機再生

2、出水水質優于常規離子交換法

3、不需酸堿再生，不污染環境

4、運行成本低，占地面積小